RHODES LP UNALON®修整流程
本流程用于帮助和指导精密抛光情况下各种Rhodes LP Unalon®的应用，修整LP可大大提高精度。应用范围从简单的光学玻璃到光电行业的异形基材。该程序的建议适用范围包括：在多种载体中，从平面到高半径曲面的多镜片/晶片抛光所用的各种Rhodes LP Unalon® 产品，从单面、小面积到大面积表面。本流程范围广泛，仅给出基本步骤，因为除了都使用Rhodes LP Unalon® 抛光垫这一共同点以外，各种情况的具体操作各不相同。如果想了解具体操作问题，如：“采用何种LP？”“使用何种抛光剂？”“针对具体基材，应如何设置压力、进刀量、速度等？”，请致电RHODES/UNIVERSAL。
公司推荐以下基本步骤，以提高Rhodes LP Unalon®的曲面控制效果，平整度及平行准确度。
1.　 将接触胶结剂牢固涂敷于挑选的LP上，或采用已带背胶的LP。LP抛光垫应预制适当的排泄孔，并开槽，因为修整后的LP抛光垫不应再受到干扰。在可能的情况下，装有LP工装的反转工装（镜像工装）应用作涂敷过程的挤压工装，以确保LP牢固、无孔附着。
2.　 完成涂敷后，LP可进行修整。修整采用具有指定曲面并带有金刚石涂层的镜像工装。金刚石磨粒度应为20-25微米，包括疏镀层，可完全露出尖锐的金刚石头部。可能的情况下，带有镀层的工装应去掉沟槽，使冲洗冷却剂能完全带走抛光垫上的金属屑。最好用水冲洗；但也可使用适合抛光基材的各种研磨冷却剂，从而冲洗抛光垫上的金属屑。抛光垫/工装装于转轴上、镀层金刚石镜像修整工装安装到位、冷却剂流动通畅时，开动机器，10秒一次脉冲，然后检查抛光垫的曲面准确度。一般而言，使用10秒一次的脉冲经过30秒后，抛光垫就能形成“曲面”。　
3.　 现在LP Unalon®加工成了“曲面”，下一步是清洁LP 抛光垫。使用中性肥皂和软毛刷，以一定的力度轻轻擦拭LP抛光垫表面，按与修整切削相反的方向以环形动作擦拭。然后以同样的动作，采用全流式水冲洗。擦拭和冲洗，最好能重复一次，必要时甚至需要重复两次。修整抛光垫时，需要通过擦拭去除所有已松弛的金刚石颗粒。擦拭冲洗后，用高压喷气嘴吹干抛光垫表面，气流方向应与修整动作方向一致。这样操作可调整修整装置的方向，便于抛光。经过上述处理后，抛光垫可随时用于试验基材抛光。建议进行以上处理，以便检查抛光垫的“曲面”准确度，并检查清洗操作是否清除了所有金刚石颗粒。　
4.　 本修整流程所采用的金刚石表面镀层必须尽量准确地加工，因为该表面将控制整个修整流程的准确性。镀层厚度和金刚砂颗粒范围的准确性非常关键。另外，覆以金刚石镀层的镜像工装表面也非常关键。加工镀层时，必须准确切割并准确补偿，制成后的金刚石表面将具备理想的“曲面”抛光垫表面。